Китайская полупроводниковая индустрия, по сообщениям, достигла важного рубежа, создав первый прототип установки для литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV). Эта технология, до сих пор остававшаяся монополией голландской компании ASML, критически важна для производства самых передовых в мире процессоров. США активно стремились не допустить передачи ее Китаю, однако новые отчёты указывают на значительный прогресс китайских инженеров. В течение нескольких лет китайские компании, в частности SMIC, предпринимали попытки воспроизвести технологию ASML, привлекая специалистов и занимаясь обратной разработкой компонентов.
Для этого, как утверждается, были использованы устаревшие детали от оборудования ASML. Ранее эта голландская компания уже выигрывала судебные иски против бывших сотрудников из Китая, обвиняя их в краже коммерческой тайны. Прогресс Китая оказался быстрее, чем ожидали многие эксперты. Несмотря на прорыв, Китай пока не приступил к серийному производству чипов с использованием технологии EUV. Однако, как сообщают источники, страна нацелена на то, чтобы сделать этот процесс массовым к 2030 году. Этот прогресс разворачивается на фоне острого технологического соперничества между США и Китаем, особенно в контексте бума искусственного интеллекта.
В Китае компания Huawei совместно с SMIC активно строит сеть производственных объектов. Литографические машины EUV — продукт десятилетий глобальных исследований. В них мощнейший лазерный луч направляется на микроскопическую каплю расплавленного олова. В результате взрыва возникает интенсивная вспышка ультрафиолетового излучения, которая используется для нанесения на кремниевую пластину схем с толщиной элементов, сравнимой с нитью ДНК.
В Санкт-Петербургском политехе разработан первый отечественный литограф.