У Китая появился свой EUV-прототип. Установка уже выдает нужное излучение, но пока не способна печатать чипы. Это первый реальный шаг в сторону локальной литографии, которая до сих пор оставалась недоступной из-за экспортных ограничений. Но до стабильной и промышленно пригодной технологии уровня ASML еще далеко и потребуется не один год доводки и серьезных инженерных усилий.
EUV-литография сегодня остается узким горлышком всей полупроводниковой индустрии. Именно она лежит в основе передовых техпроцессов, на которых производятся современные процессоры для смартфонов, серверов, ИИ-ускорителей и военных систем. Формально часть 5-нм слоев можно получить и без EUV, используя DUV с множественной экспозицией. Но это влечет за собой более высокую себестоимость, больше брака и повышение сложности. Для 3 нм и ниже производство без EUV вообще не рассматривается.
На этом фоне ASML пока остается уникальной компанией. Только она поставляет коммерческие EUV-системы, каждая из которых стоит порядка $250 млн и собирается из тысяч компонентов, включая сверхточную оптику Carl Zeiss. Ни одна такая система никогда не поставлялась в Китай. С 2018 года США последовательно добивались блокировки этих поставок через экспортные режимы союзников, и эта политика работает. Россия пока пытается наладить выпуск собственного оборудования для производства чипов с технологическим процессом до 350-нм. И это тоже считается прогрессом на фоне тотальных ограничений.
Китайский проект выглядит логичной попыткой преодолеть технологическую блокаду. По данным Reuters, над прототипом в Шэньчжэне работали бывшие инженеры ASML, в том числе недавно вышедшие на пенсию. Речь идет о десятках специалистов и сотне инженеров, проект засекречен и курируется на уровне высшего руководства страны. Внутри Китая его называют аналогом Манхэттенского проекта.
Микроэлектроника по-русски: кто выживет в игре на выбывание
Технически прототип еще далек от коммерческого уровня. Он значительно больше установок ASML и пока уступает им по ключевым параметрам. Самая сложная часть не источник EUV-света, а вся система в целом. Мощность излучения, стабильность, загрязнение, точность совмещения слоев, оптика, производительность, сервисная надежность. Именно здесь ASML потратила почти два десятилетия и миллиарды евро, прежде чем в 2019 году вывела EUV в коммерческое производство.
Пока проект ориентируется на 2028 года для печати первых чипов на китайском прототипе. Хотя более реалистичная оценка звучит как 2030 год. Даже если эти сроки будут соблюдены, это не означает появления конкурента ASML на мировом рынке. Скорее речь идет о внутренней технологической автономии, ограниченных объемах и длительном этапе доводки.
Есть и еще один важный нюанс. Пока Китай догоняет текущий уровень EUV, сама индустрия движется дальше. ASML уже поставляет системы High-NA EUV следующего поколения, которые нужны для будущих техпроцессов.