Китайские инженеры добились значительного технологического прорыва в сфере производства микрочипов. Как сообщает Reuters, в лаборатории в Шэньчжэне была создана собственная установка экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV). В проекте участвовали бывшие инженеры ASML, а сама разработка долгое время оставалась засекреченной.
Проект, в рамках которого создали EUV-машину, является частью национальной полупроводниковой стратегии, которую, как сообщали государственные СМИ, курирует доверенное лицо Си Цзиньпина — Дин Сюэсян, возглавляющий Центральную комиссию КПК по науке и технологиям. В координации работ ключевую роль играет Huawei — компания объединяет сеть компаний и государственных научных институтов по всей стране, в которых задействованы тысячи инженеров.
Источники Reuters сравнивают этот проект с китайским аналогом «Манхэттенского проекта» — американской программы времён Второй мировой войны по созданию атомной бомбы. «Цель в том, чтобы Китай в конечном итоге смог производить передовые чипы на оборудовании, полностью созданном внутри страны. Китай хочет на 100% исключить США из своих цепочек поставок», — рассказал один из собеседников Reuters.
Новая EUV-машина пока не готова к промышленному производству чипов. По оценкам источников, установка может стать полностью функциональной в период с 2028 по 2030 год. К тому времени мировые лидеры отрасли, включая ASML, TSMC и Samsung, вероятно, уже перейдут на следующее поколение технологий — High-NA EUV. Дополнительной сложностью для Китая станет необходимость полностью локализовать производство компонентов.
До настоящего момента китайская полупроводниковая отрасль была вынуждена использовать устаревшие DUV-установки — единственные, которые страна могла легально приобретать. Тем не менее, SMIC смогла выжать максимум из этой технологии: компания выпускает однокристальные системы 5-нанометрового класса (Kirin 9030) и даже рассматривает возможность перехода к 2-нанометровому классу. Массовое производство собственных EUV-литографов станет революцией для Китая.