Голландская ASML является единственной компанией в мире, сумевшей создать и наладить серийное производство фотолитографов экстремального ультрафиолета (EUV), ключевого оборудования в производстве ультрапередовых микросхем. Примечательно, что именно российские учёные и целые научные организации приняли самое деятельное участие в разработке технологий, в значительной мере предопределивших успех машин из Нидерландов.
Многие наши соотечественники уехали работать непосредственно в структуры ASML. Среди них директор по исследованиям ASML В. Е. Банин, внёсший значительный вклад в создание EUV фотолитографов, и И. В. Фоменков, руководитель программы источников излучения для EUV фотолитографии американского производителя Cymer (подразделение ASML).
Создание лазерно-плазменного источника EUV излучения компанией Cymer, безусловно, выдающееся достижение. Синхронизировать подачу капель расплавленного олова (50 000 раз в секунду!) с двойным «поражением» каждой капли высокоэнергетическим импульсным лазером с целью получения оловянной плазмы, излучающей искомый 13,5 нм свет, — это действительно надо суметь.
Менее известен факт, что поначалу ASML делала ставку на источник на основе плазмы ксенона, но безрезультатно (из-за слишком малой мощности генерируемого излучения). Прорыв наступил только в 2003 году, когда по заказу голландцев учёные из российского Института Спектроскопии разработали технологию создания источника на основе оловянной плазмы (был сделан прототип). Источник представлял из себя своего рода газоразрядную вакуумную лампу, в которой между двумя электродами из жидкого олова проскакивают разряды с частотой в несколько десятков тысяч в секунду, генерирующие 13,5 нм EUV излучение, мощность которого многократно превышала мощность ксенонового источника.
Спараведливости ради надо сказать, что ASML в конечном итоге сделала свой выбор в пользу другой технологии на основе олова, уже упомянутой лазерно-плазменной. Однако именно российские учёные показали всему миру, насколько эффективными могут быть решения на основе олова. А вот разработанные нижегородским Институтом физики микроструктур (ИФМ) РАН (по заказу всё той же ASML) технологии изготовления многослойных зеркал (передающих и фокусирующих световое EUV излучение) пришлись для будущих голландских фотолитографов как нельзя кстати: уже в 2010 году первая предсерийная EUV установка ASML отправилась на фабрику южнокорейской Samsung Electronics.
Примечательно, что несостоявшаяся в своё время история с ксеноновым источником переживает сейчас своё второе рождение благодаря всё тому же ИФМ РАН. То, что не получилось сделать ни американцам, ни голландцам, ни японцам, может получиться у россиян. Статью про разработку российского EUV фотолитографа на основе ксенона можно прочитать в премиум-разделе канала «Фотолитограф»: