Оборудование для производства микрочипов создали российские ученые
В России разработали первые отечественные кластерные установки плазмохимического травления и осаждения, рассказал Минпромторг.
Станки нужны для создания микроэлектроники — ключевого компонента современной цифровой экономики. Речь идет о специализированных станках, способных работать с техпроцессом до 65 нанометров, что позволяет создавать чипы для смартфонов, серверов и промышленных систем.
Эти машины предназначены для обработки кремниевых пластин диаметром до 300 мм — стандартного формата в полупроводниковой отрасли. Они выполняют два критически важных этапа:
🔹Нанесение тонких пленок из оксида или нитрида кремния, формируя изолирующие слои толщиной в десятки нанометров. Это основа для многоуровневых структур транзисторов.
🔹Плазмохимическое травление, где ионизированная плазма избирательно удаляет материал, вычерчивая наноструктуры с точностью до атомного уровня.
Отсутствие воздуха исключает окисление, взаимодействие с частицами или влагой. В условиях глобального дефицита передовых полупроводников такое оборудование может стать прорывом для импортозамещения.
Фото: Минпромторг РФ
#сделановроссии
Подписывайтесь на «Сделано в России»
