Завершилась серия семинаров, посвящённая современным технологиям литографии и обработки фоторезистов. Мероприятия прошли при участии экспертов из компаний Остек-ЭК, Остек-Интегра и Остек-АртТул в трёх городах: 18 ноября — в Зеленограде, 20 ноября — в Санкт-Петербурге и 27 ноября — в Томске. В ходе деловой программы специалисты Остек-ЭК рассказали о различных методах литографии — контактной, безмасковой, наноимпринтной и электронно-лучевой. Затронули проблему доступности процессов и сложности их реализации в текущих условиях рынка, разобрали процесс подготовки подложек перед литографическим процессом и представили оборудование. Спикеры из Остек-Интегра сделали обзор доступных материалов, а эксперты из Остек-АртТул раскрыли тему нанометрологии и анализа поверхности, а также рассказали об основных методах инспекции фоторезисторных структур. Участники узнали больше о роли чистого помещения в фотолитографии и получили понимание, как можно решить возникающие проблемы на производстве. Специал
Итоги серии семинаров Остек-ЭК «Актуальные технологии и оборудование для литографии и обработки фоторезистов»
5 декабря5 дек
2
1 мин