Озвучена стоимость первого российского фотолитографа — около 4,5 миллионов долларов. Эта цифра стала известна в марте 2025 года в связи с завершением важного этапа разработки. Фотолитограф, созданный в Зеленоградском нанотехнологическом центре (ЗНТЦ), знаменует собой прорыв в области импортозамещения и начало формирования собственной технологической цепочки в критически важной для государства сфере.
Почему фотолитография — «сердце» микроэлектроники?
Фотолитография — это фундаментальный технологический процесс, без которого невозможно производство современных микросхем-1. Его можно сравнить с работой фотографического аппарата, где вместо пейзажа на кремниевую пластину проецируется микроскопическая схема будущего процессора или чипа памяти. Именно литографическое оборудование определяет, насколько миниатюрными и производительными будут полупроводниковые устройства. На этот процесс приходится до 35% и более от общей стоимости производства чипов.
За последние десятилетия мировая индустрия сделала гигантский скачок: от норм 350 нанометров (нм) в конце 1990-х до современных 3-5 нм. Лидером на этом рынке является голландская компания ASML, контролирующая около 84% мирового рынка литографического оборудования наряду с японскими Nikon и Canon. Стоимость их самых передовых установок для EUV-литографии (экстремальный ультрафиолет) достигает сотен миллионов долларов. В 2024 году общий объём мирового рынка литографического оборудования оценивался в 42,8 млрд долларов.
Отечественная разработка: характеристики и значение
Первый российский фотолитограф, анонсированный в 2025 году, предназначен для создания микросхем с топологическими нормами 350 нм.
- Технические параметры: Это проекционный степпер (шаговый повтортель), работающий на длине волны 365 нм (так называемая i-линия). Установка весом 3,5 тонны рассчитана на обработку кремниевых пластин диаметром 150 и 200 мм с автоматической загрузкой.
- Стоимость: Ориентировочная цена в 4,5 миллиона долларов выглядит конкурентоспособной на фоне зарубежных аналогов. Для сравнения, контракт на разработку более сложного отечественного фотолитографа на 130-65 нм оценивается в 5,7 млрд рублей.
- Сфера применения: Чипы с нормой 350 нм сегодня относятся к «большеразмерным», но остаются востребованными в ряде отраслей. Они применяются в автомобильной промышленности (бортовые системы), энергетике, телекоммуникационном оборудовании и для производства силовой электроники. Это технологии, где не требуется сверхвысокая плотность транзисторов, но важна надёжность и стойкость к внешним воздействиям.
Разработка велась в рамках госпрограммы по локализации полного цикла производства микросхем. Это означает, что создание фотолитографа — лишь первый, но ключевой шаг. Полноценное производство требует целого парка совместимого оборудования: для нанесения фоторезиста, травления, очистки и контроля.
Международное сотрудничество и исторические корни
Важной особенностью проекта стало партнёрство с белорусским заводом «Планар». Это предприятие — единственное на постсоветском пространстве, сумевшее сохранить компетенции в области разработки и производства литографического оборудования ещё с советских времён. Российская сторона, в частности, отвечала за создание ключевого компонента — лазера с длиной волны 365 нм.
Такое сотрудничество позволило значительно ускорить процесс и опереться на проверенные инженерные решения. По сути, созданный фотолитограф является российско-белорусским, что подчёркивает важность интеграции в рамках Союзного государства для решения сложных технологических задач.
Вызовы и перспективы: путь к 130 нанометрам
Запуск фотолитографа на 350 нм — это скорее не финиш, а стартовая площадка для более амбициозных проектов.
- Планы по развитию: Уже ведётся разработка следующего поколения оборудования для норм 130 нм с перспективой выхода на 65 нм. Для этого потребуется переход на эксимерный лазер с длиной волны 193 нм (технология ArF), что является качественно новым уровнем сложности. Опытный образец такого степпера планируется получить к концу 2026 года.
- Контекст мирового развития: Следует понимать, что мировая индустрия прошла путь от 350 нм до 90 нм за шесть лет (1997-2003 гг.) в условиях острой конкуренции и колоссальных инвестиций. России предстоит наверстывать упущенное в сжатые сроки, что является беспрецедентным вызовом.
- Экономика и спрос: Для окупаемости таких проектов необходим устойчивый внутренний спрос. По данным на 2025 год, уже есть предзаказы, в том числе от белорусского производителя микросхем «Интеграл». Установка нового оборудования на действующем производстве, включая пуско-наладку, занимает до полугода.
Заключение
Озвученная стоимость первого российского фотолитографа в 4,5 миллиона долларов — это не просто цена устройства. Это символиченая стоимость первого самостоятельного шага к технологическому суверенитету в микроэлектронике.
Несмотря на то, что созданная установка соответствует технологиям 20-летней давности, её значение трудно переоценить. Она:
- Закрывает практические потребности ряда отечественных отраслей.
- Создаёт задел и компетенции для перехода к более современным нормам.
- Демонстрирует возможность организации сложнейших разработок в условиях внешних ограничений.
Путь от 350 нанометров к 130 и далее будет неизмеримо сложнее и потребует колоссальных ресурсов, координации науки и промышленности. Однако без этого первого, пусть и скромного на фоне мировых гигантов, шага, движение вперёд было бы невозможным. Российская микроэлектроника начинает долгий и трудный путь догоняющего развития, и первый отечественный фотолитограф — её отправная точка.
