Стартап Substrate создал альтернативную технологию литографии микрочипов Американская компания Substrate разработала инновационное литографическое оборудование для производства микрочипов. При помощи ускорителя частиц создается рентгеновское излучение с более короткой длиной волны. Возможность получать более узкие пучки решает одну из самых сложных технологических проблем. Substrate утверждает, что в самом скором времени новая технология вытеснит машины High NA EUV компании ASML. https://hightech.plus/2025/10/31/startap-substrate-sozdal-alternativnuyu-tehnologiyu-litografii-mikrochipov
Стартап Substrate создал альтернативную технологию литографии микрочипов
Американская компания Substrate разработала инновационное литографическое оборудование для производства микрочипов. При помощи ускорителя частиц создается рентгеновское излучение с более короткой длиной волны. Возможность получать более узкие пучки решает одну из самых сложных технологических проблем. Substrate утверждает, что в самом скором времени новая технология вытеснит машины High NA EUV компании ASML.
