Найти в Дзене
Фотолитограф

Разработана российская система контроля качества микросхем.

Отличился зеленоградский стартап «ИИ-Тех» (Национальный университет МИЭТ) в сотрудничестве с Зеленоградским нанотехнологическим центром (ЗНТЦ). В полупроводниковом производстве контроль качества микросхем производится на множестве этапов. В данном случае речь идёт о системе выявления дефектов кристаллов после резки пластин. На данный момент создан рабочий прототип устройства, включающий в себя микроскоп высокого разрешения, моторизированный столик, сервер для обработки данных и специализированное программное обеспечение. Комплекс уже успешно прошёл испытания на производственной линии ЗНТЦ. «ИИ-Тех» разработал программное обеспечение для интеллектуального визуального контроля внешнего вида кристаллов микросхем. Весь процесс, от загрузки образцов до формирования отчёта, автоматизирован. Так что теперь точность обнаружения микротрещин, царапин, геометрических искажений и прочих производственных дефектов может быть существенно повышена. При разработке системы широко использовались алгори

Отличился зеленоградский стартап «ИИ-Тех» (Национальный университет МИЭТ) в сотрудничестве с Зеленоградским нанотехнологическим центром (ЗНТЦ).

Изображение: медиа-центр zntc.ru
Изображение: медиа-центр zntc.ru

В полупроводниковом производстве контроль качества микросхем производится на множестве этапов. В данном случае речь идёт о системе выявления дефектов кристаллов после резки пластин.

На данный момент создан рабочий прототип устройства, включающий в себя микроскоп высокого разрешения, моторизированный столик, сервер для обработки данных и специализированное программное обеспечение.

Комплекс уже успешно прошёл испытания на производственной линии ЗНТЦ. «ИИ-Тех» разработал программное обеспечение для интеллектуального визуального контроля внешнего вида кристаллов микросхем. Весь процесс, от загрузки образцов до формирования отчёта, автоматизирован.

Так что теперь точность обнаружения микротрещин, царапин, геометрических искажений и прочих производственных дефектов может быть существенно повышена.

При разработке системы широко использовались алгоритмы искусственного интеллекта, обученные на базе изображений дефектов. При этом программное обеспечение может быть оптимизировано в соответствии с требованиями конкретного производства.

Интерес к новинке уже выказали многие ведущие полупроводниковые предприятия нашей страны, такие как зеленоградские заводы «Микрон» и «НМ-Тех». Предполагается, что передовики отечественной микроэлектроники окажут деятельное содействие в тестировании и внедрении данного решения на своих производствах.

Отрадно, что в нашей стране сложилось чёткое понимание того, что микроэлектроника — штука комплексная. И помимо разработки такого ключевого оборудования, как фотолитографические установки и машины травления микросхем, необходимы многочисленные системы контроля качества, метрологическое оборудование, вспомогательные инструменты и специализированное программное обеспечение.

Ведь чтобы запустить производственную линию, придётся обеспечить одномоментную готовность всех её составляющих.

Статью про вызовы на пути создания российского EUV фотолитографа можно прочитать в премиум-разделе канала «Фотолитограф»:

Главная проблема создания российского EUV фотолитографа.
Фотолитограф23 января