По данным СМИ, фабрика компании «Отраслевые решения» в ближайшее время получит первый отечественный литограф с разрешением 350 нм. Заодно стали известны и некоторые технические подробности о новом оборудовании.
По информации CNews со ссылкой на группу компаний «Элемент», литограф предназначен для изготовления сверхбольшой интегральной схемы (СБИС) с проектной топологической нормой 350 нм. Такая продукция может использоваться для изготовления элементной базы в различных сферах электроники (например, силовой и автомобильной), а также в промышленных системах.
Площадь рабочего поля литографа составляет 22х22 мм, при этом он способен обрабатывать пластины диаметром в 200 мм. Рабочая длина волны установки, согласно источнику, составляет 365 нм. Сообщается, что уже ведётся работа над оборудованием с разрешением 130 нм, но сроки его коммерческого выпуска пока не объявлены.