Китайская компания Pulin Technology разработала и внедрила импринтный литограф PL-SR для серийного производства микросхем с нормами до 10 нм, работающую на 300-мм пластинах. Эта технология нанопечати (NIL) позволяет наносить рисунок по частям, используя капельное нанесение резиста, что экономит материалы и обходится без сложной оптики и мощных лазеров. В условиях ограниченного доступа к передовому литографическому оборудованию метод импринтной литографии становится для Китая критически важной альтернативой. Несмотря на то, что NIL пока остаётся нишевой технологией и уступает EUV по точности, она уже прошла испытания и внедрена на одной из местных фабрик.
Китайская компания Pulin Technology разработала и внедрила импринтный литограф PL-SR для серийного производства микросхем с нормами до 10 нм, работающую на 300-мм пластинах. Эта технология нанопечати (NIL) позволяет наносить рисунок по частям, используя капельное нанесение резиста, что экономит материалы и обходится без сложной оптики и мощных лазеров.
В условиях ограниченного доступа к передовому литографическому оборудованию метод импринтной литографии становится для Китая критически важной альтернативой. Несмотря на то, что NIL пока остаётся нишевой технологией и уступает EUV по точности, она уже прошла испытания и внедрена на одной из местных фабрик.
