ASML выпустила первую установку High‑NA EUV EXE:5200B, предназначенную для массового производства передовых микросхем. Система уже стоит на сборочной площадке ASML: её числовая апертура (NA) увеличена до 0,55, а производительность выросла на 60 % по сравнению с предшественником EXE:5000 — до 175 пластин в час, сообщил генеральный директор Кристоф Фуке. Intel стала пионером в применении High‑NA EUV: год назад компания получила EXE:5000 для испытаний технологии 14A, а теперь готовится к развертыванию EXE:5200B в серийном производстве. При этом TSMC отложила переход на High‑NA минимум до 2028 года. Также не определилась со сроками и компания Samsung.
ASML выпустила первую установку High‑NA EUV EXE:5200B, предназначенную для массового производства передовых микросхем. Система уже стоит на сборочной площадке ASML: её числовая апертура (NA) увеличена до 0,55, а производительность выросла на 60 % по сравнению с предшественником EXE:5000 — до 175 пластин в час, сообщил генеральный директор Кристоф Фуке.
Intel стала пионером в применении High‑NA EUV: год назад компания получила EXE:5000 для испытаний технологии 14A, а теперь готовится к развертыванию EXE:5200B в серийном производстве. При этом TSMC отложила переход на High‑NA минимум до 2028 года. Также не определилась со сроками и компания Samsung.
