Современное производство микросхем — это среда, где даже мельчайшая пылинка может стать критическим дефектом. Но мало кто задумывается, что основным «расходным материалом» на фабриках полупроводников является... вода. И не просто питьевая, а ультраочищенная. Даже чистая на вид вода из-под крана содержит соли, органику, бактерии, микрочастицы и ионы, наличие которых недопустимо при производстве микросхем. Любой микроскопический загрязнитель, оставшийся на подложке чипа, может нарушить структуру кристалла, вызвать короткое замыкание или снизить срок службы устройства. Ультраочищенная вода (Ultra Pure Water, UPW) — это вода, из которой удалены практически все примеси, включая: Ультраочищенная вода чище дистиллированной в десятки, а то и сотни раз. Процесс водоочистки для микросхем очень сложный и многоступенчатый. Так, обязательными этапами являются: 1. Механическая фильтрация Это первая и обязательная стадия очистки, на которой из воды удаляются крупные примеси: песок, ил, взвешенные ча