Добавить в корзинуПозвонить
Найти в Дзене

Какая вода нужна для производства микросхем?

Современное производство микросхем — это среда, где даже мельчайшая пылинка может стать критическим дефектом. Но мало кто задумывается, что основным «расходным материалом» на фабриках полупроводников является... вода. И не просто питьевая, а ультраочищенная. Даже чистая на вид вода из-под крана содержит соли, органику, бактерии, микрочастицы и ионы, наличие которых недопустимо при производстве микросхем. Любой микроскопический загрязнитель, оставшийся на подложке чипа, может нарушить структуру кристалла, вызвать короткое замыкание или снизить срок службы устройства. Ультраочищенная вода (Ultra Pure Water, UPW) — это вода, из которой удалены практически все примеси, включая: Ультраочищенная вода чище дистиллированной в десятки, а то и сотни раз. Процесс водоочистки для микросхем очень сложный и многоступенчатый. Так, обязательными этапами являются: 1. Механическая фильтрация Это первая и обязательная стадия очистки, на которой из воды удаляются крупные примеси: песок, ил, взвешенные ча
Оглавление

Современное производство микросхем — это среда, где даже мельчайшая пылинка может стать критическим дефектом. Но мало кто задумывается, что основным «расходным материалом» на фабриках полупроводников является... вода.

И не просто питьевая, а ультраочищенная.

Почему обычная вода не подходит для таких задач?

Даже чистая на вид вода из-под крана содержит соли, органику, бактерии, микрочастицы и ионы, наличие которых недопустимо при производстве микросхем. Любой микроскопический загрязнитель, оставшийся на подложке чипа, может нарушить структуру кристалла, вызвать короткое замыкание или снизить срок службы устройства.

Что такое ультраочищенная вода?

Ультраочищенная вода (Ultra Pure Water, UPW) — это вода, из которой удалены практически все примеси, включая:

  • растворённые соли (до уровня 1 части на миллиард);
  • органические соединения (TOC менее 5 ppb);
  • частицы (менее 1 на миллилитр);
  • бактерии и вирусы (полное удаление);
  • кремний, железо, медь и другие ионы металлов.

Ультраочищенная вода чище дистиллированной в десятки, а то и сотни раз.

Как получают такую воду?

-2

Процесс водоочистки для микросхем очень сложный и многоступенчатый. Так, обязательными этапами являются:

1. Механическая фильтрация

Это первая и обязательная стадия очистки, на которой из воды удаляются крупные примеси: песок, ил, взвешенные частицы и органические остатки. Обычно используются фильтры грубой и тонкой очистки (сетчатые, дисковые, гидроциклоны), которые защищают последующее оборудование от повреждений и засоров.

2. Обезжелезивание

На этом этапе из воды устраняются растворённые и нерастворённые формы железа, марганца, алюминия и других металлов. Это важно для предотвращения отложений на мембранах и для стабильной работы чувствительного оборудования. Процесс может включать аэрацию, каталитические загрузки и фильтрацию через сорбенты.

3. Обратный осмос

Основной метод глубокой очистки воды от растворённых солей, органических соединений, тяжелых металлов и других микропримесей. С помощью полупроницаемых мембран вода разделяется на чистую (пермеат) и загрязненную (концентрат). Установки обратного осмоса обеспечивают удаление до 98% растворённых веществ.

4. УФ-обеззараживание и деструкция органики

Ультрафиолетовое излучение (УФ) применяется для инактивации бактерий, вирусов и грибков. В дополнение к УФ могут применяться процессы фотокатализа или озонирования для разрушения органических молекул, что критически важно при производстве UPW.

5. Полярификационные фильтры (EDI и UPW-фильтрация)

Финишная стадия очистки, доводящая воду до стандартов UPW. Используются ионообменные системы с электрическим полем (EDI — электродеионизация), а также специальные полимерные фильтры с крайне низкой пористостью. Они удаляют остатки ионов, коллоидов, кремниевых соединений и микрозагрязнителей. Результатом становится вода с удельным сопротивлением 18,2 МОм·см — максимальное значение для жидкой среды.

Где используется UPW?

-3

На крупных фабриках такие установки работают непрерывно и потребляют миллионы литров воды ежедневно. Для примера: на производство одного 300-мм кристалла уходит от 8000 до 15000 литров UPW.

Ультраочищенная вода нужна для:

  • промывки кремниевых пластин между этапами травления и нанесения слоёв;
  • подготовки химических растворов для процессов осаждения и фоторезиста;
  • очистки оборудования и лабораторных инструментов.

Ультраочищенная вода — это не просто компонент, а одна из основ технологической чистоты в полупроводниковом производстве. Качество UPW напрямую влияет на процент выхода годных микросхем и стабильность всей технологической линии.

Компания НПЦ ПромВодОчистка занимается производством и поставкой оборудования для водоподготовки и очистки воды, включая решения для особо чистых и технологически сложных процессов, таких как производство микросхем.

Мы не только изготавливаем установки, но и разрабатываем полные технологические цепочки, проектируем комплексные системы с учётом требований конкретного объекта.

Если вы не уверены, какое оборудование вам нужно, или только начинаете планирование — обратитесь за экспертной консультацией к надежной инженерной команде и доверьте решение ваших проблем профессионалам.

-4