Установку доработали с учётом современных технологий
Специалисты Физического института имени П. Н. Лебедева (ФИАН) разработали установку для получения отечественных компонентов рентгеновской и дифракционной оптики, основанную на электронном нанолитографе, который перестал производиться после распада Советского Союза. Об этом сообщил вице-президент Международной комиссии по оптике (ICO) и член-корреспондент РАН Андрей Наумов.
В качестве базы для установки мы взяли электронный нанолитограф ZBA, разработанный в 1980-1990 годах консорциумом стран Совета экономической взаимопомощи (СЭВ). В СССР, странах СЭВ и на постсоветском пространстве работали несколько сотен таких установок и значительная часть всей позднесоветской и постсоветской электроники изготавливалась с использованием этих машин, которые после распада Советского Союза в силу политических причин перестали производиться. Помимо реинжиниринга отдельных узлов установки, осуществлена их переработка с учетом современных технологий.
— Андрей Наумов, вице-президент Международной комиссии по оптике (ICO)
С помощью новой установки российские ученые уже начали получать элементы спектрометров и компоненты для изготовления дифракционных оптических элементов и фазовых решеток. Их применяют в системах машинного зрения и микроскопии.
Совсем недавно были изготовлены специально рассчитанные дифракционные решетки скользящего падения с переменным периодом, использование которых принципиально для развития рентгеновской оптики. Мы также получили дифракционные решетки высокого качества для спектрометров. Реализована возможность печати на больших пластинах вплоть до размеров 150 на 150 мм.
— Андрей Наумов, вице-президент Международной комиссии по оптике (ICO)
В установке используется метод электронно-лучевой литографии. Он предполагает применение пучка электронов для структурирования поверхности специального полимерного материала (резиста). Этот подход позволяет производить уникальные наноструктуры с технологическим стандартом до 200 нанометров и менее.
Ранее www1.ru сообщал, что первый российский литограф на 350 нанометров вышел на испытания.
Читать материалы по теме:
Росэлектроника показала технологию производства печатных плат
«Ростелеком» заинтересован в отечественном литографе и дальнейшем развитии проекта ОС «Аврора»
В России начнут производить печатные платы для портативной электроники