Стартап Inversion Semiconductor из Сан-Франциско разрабатывает компактный ускоритель частиц, который, по утверждению компании, способен генерировать световой поток мощностью до 10 кВт — в 33 раза выше показателей систем ASML. Устройство в 1000 раз меньше традиционных ускорителей и использует технологию лазерного ускорения в следе плазмы (LWFA) для создания излучения с длиной волны от 20 до 6,7 нм. Это может ускорить производство чипов в 15 раз или позволить одновременно задействовать несколько литографов, снижая затраты.
Однако технология требует дорогостоящих и энергоёмких лазеров пета-ваттного класса. Кроме того, у компании нет опыта в разработке литографических систем, поэтому для выхода на рынок понадобится либо сотрудничество с ASML, либо создание собственной производственной экосистемы с нуля.
