В Санкт-Петербургском политехническом университете Петра Великого (СПбПУ) разработали отечественную установку вакуумного магнетронного осаждения. Об этом сообщила пресс-служба Минобрнауки РФ. Новая установка позволяет наносить самые тонкие покрытия из различных материалов путем распыления атомов. Такие покрытия используются в микроэлектронике, оптоэлектронике и фотовольтаике. Лабораторная установка, разработанная инженерами НЦМУ СПбПУ, предназначена для осаждения различных материалов на подложки кремния, карбида кремния, алмаза, кварца путем распыления атомов мишени. Основное назначение новой установки - осаждение металлов заданной толщины от 10 нм до десятков мкм на подложки, которые используются в полупроводниковой промышленности.
— Пресс-служба Минобрнауки РФ В процессе вакуумного магнетронного осаждения ключевую роль играет мишень — источник материала для покрытия. При подаче напряжения на магнитную систему магнетрон в атмосфере инертного газа генерирует плазму. Освобожденные з