Компания Corning известна многим обычным пользователям, как производитель защищённого стекла для мобильных устройств. Теперь Corning представила стекло, но совершенно иного характера.
Компания анонсировала свой новый материал с ультранизким расширением, который разработан, чтобы выдерживать постоянно растущую мощность будущих систем литографии Low-NA и High-NA EUV.
Новый материал под названием Extreme ULE будет использоваться для фотошаблонов и литографических зеркал следующего поколения.
Ключевой особенностью материала Extreme ULE является его чрезвычайно низкое тепловое расширение, что обеспечивает исключительную однородность для использования фотошаблонов. Кроме того, как сказано в пресс-релизе, исключительная плоскостность и однородность стекла значительно снижает волнистость фотошаблонов, помогая ограничить нежелательную изменчивость для производителей и позволяя наносить передовые покрытия.