Москва. 6 сентября. INTERFAX.RU - Правительство Нидерландов с 7 сентября расширяет меры экспортного контроля в отношении оборудования для выпуска полупроводниковой продукции, говорится на его сайте. В частности, новые меры касаются систем фотолитографии в глубоком ультрафиолете (DUV) и затронут литографы TWINSCAN NXT:1970i и 1980i производства ASML, сообщается на сайте компании. Теперь ASML будет нужно получать лицензии на экспорт этого оборудования от властей Нидерландов, а не США. Аналогичные требования уже действуют в отношении DUV-литографов TWINSCAN NXT:2000i и новее. Поставки более современных систем фотолитографии в сверхжестком ультрафиолете (EUV) также требуют лицензирования. ASML - единственный их производитель в мире. EUV-литографы используются для производства самых современных чипов, в том числе тайваньской TSMC. DUV-литографы применяются для выпуска других типов полупроводниковой продукции, в частности микросхем памяти для широкого спектра товаров, включая смартфоны и лэп
Нидерланды расширят экспортный контроль над оборудованием для выпуска чипов
6 сентября 20246 сен 2024
3
1 мин