Россия сделала значительный шаг в развитии своих технологических возможностей в производстве полупроводников с созданием первого отечественного литографа. Он способен производить чипы с технологическим процессом до 350-нм и в настоящее время проходит испытания в Зеленограде. Как это повлияет на отечественную микроэлектронику?
«Мы собрали и разработали первый отечественный литографический сканер», — поделился заместитель министра промышленности и торговли РФ Василий Шпак на ЦИПР. «В настоящее время он проходит испытания в составе технологической линейки в Зеленограде». Также было объявлено, что планируется создать следующий литограф, способный обеспечивать создание чипов по техпроцессу 130 нанометров, к 2026 году.
Это значительное достижение для российской полупроводниковой индустрии, однако технологический процесс 350 нм на сегодняшний день является устаревшим с точки зрения мировых стандартов. Компания Intel выпускала свои процессоры Pentium MMX, Pentium Pro и первые процессоры Pentium II на этой технологии в 1995 и 1997 годах, соответственно, в то время как AMD использовала эту технологию для своего процессора K6 в 1997 году. Тем не менее, этот техпроцесс до сих пор используется для некоторых автомобильных и энергетических чипов, а также может быть применен в военной и специализированной технике.
На данный момент неясно, как российский литографический сканер может быть использован в коммерческих целях, однако его разработка может послужить основой для создания более совершенных литографических машин.
Сектор полупроводниковой промышленности в России развивается медленнее, чем планировалось в 2023 году. Ранее озвученные краткосрочные цели включали увеличение местного производства микросхем с использованием технологии 90-нм к концу года, а также установку производства на технологии 28-нм к 2027 году и на 14-нм к 2030 году.
Мировой рынок на сегодняшний день возглавляет нидерландская ASML, которая имеет производственные мощности в Нидерландах, Германии, США и других странах. Кроме того, заметную роль играют японские компании Canon и Nikon, несмотря на то, что они потеряли свои позиции за последние годы. Китай также активно развивает собственное производство литографического оборудования, достигнув значительных успехов в этой области. Таким образом, Россия стремится занять свое место среди ведущих стран в производстве данного класса оборудования. Несмотря на определенное отставание от мировых лидеров, разработка российского литографа является важным шагом к технологической независимости.
Российский литограф является частью государственной программы по развитию микроэлектроники, направленной на уменьшение зависимости от зарубежных технологий. Это особенно важно в условиях нынешней геополитической обстановки и необходимости обеспечения устойчивости отечественной промышленности. По словам Шпака, создание и тестирование этого оборудования является свидетельством того, что Россия способна самостоятельно разрабатывать и производить сложные технологические устройства.