xLight разрабатывает новый источник EUV-излучения для литографического оборудования на основе лазеров на свободных электронах (FEL), использующих технологии ускорителей частиц. Компания планирует представить его к 2028 году, обеспечив совместимость с существующими установками. Пэт Гелсингер, исполнительный председатель xLight, отметил, что новая технология увеличит мощность LPP-источников в четыре раза по сравнению с аналогами, снизит стоимость кремниевых пластин на 50% и капитальные расходы на треть.
xLight разрабатывает новый источник EUV-излучения для литографического оборудования на основе лазеров на свободных электронах (FEL), использующих технологии ускорителей частиц. Компания планирует представить его к 2028 году, обеспечив совместимость с существующими установками. Пэт Гелсингер, исполнительный председатель xLight, отметил, что новая технология увеличит мощность LPP-источников в четыре раза по сравнению с аналогами, снизит стоимость кремниевых пластин на 50% и капитальные расходы на треть.
