Голландский крупнейший производитель литографического оборудования для микроэлектронной промышленности ASML сообщил о поставке первой из своих новых систем литографии в экстремальном ультрафиолете (High NA EUV) корпорации Intel. Эти станки позволят производителям компьютерных чипов производить меньшие по размеру и более быстрые чипы. В частности, данные машины помогут производить чипы по технологии 2 нм.
Ожидается, что эти станки будут использованы в коммерческом производстве чипов начиная с 2026 или 2027 года. Первая из таких машин была отправлена из штаб-квартиры компании в Вельдховене, Нидерланды, в защитном футляре с красной лентой вокруг него.
ASML доминирует на рынке систем литографии и поставляет их многим крупным производителям микросхем, включая Intel, TSMC, Samsung, SK Hynix и Micron. Ожидается, что ASML будет увеличивать свою производственную мощность на эти машины до 20 единиц в год в ближайшие годы.
