В последнее время мировая полупроводниковая индустрия столкнулась с серьезными проблемами в отношении поставок компонентов для упаковки микросхем. Несмотря на общее замедление экономического роста, постоянный дефицит фотомасок, которые играют решающую роль в производстве микросхем, оказывает на нее серьезное воздействие. Основной причиной такой ситуации является высокий спрос со стороны китайских компаний-разработчиков микросхем, который стал заметно возрастать из-за санкций, налагаемых США на производство микросхем в Китае.
Лидирующие производители фотомасок, такие как Toppan, Photronics и Dai Nippon Printing, работают на предельной мощности, чтобы удовлетворить потребности различных китайских компаний. Тем не менее, предложение по-прежнему остается недостаточным, что приводит к срочным заказам по высоким ценам.
Ключевым компонентом процесса производства микросхем являются фотомаски, которые используются для переноса схемы на кремниевые пластины при литографии. Они представляют собой прозрачные куски кварца с нанесенным на них рисунком дизайна микросхемы и функционируют аналогично трафарету. Проходя сквозь маску, свет вытравливает рисунок на пластине, создавая миллиарды трехмерных транзисторов, из которых состоит современный микрочип.
Основной причиной роста спроса на фотомаски является быстрый рост китайских полупроводниковых компаний. За последний год число таких компаний в Китае выросло до 3 243, что в значительной степени объясняется влиянием санкций США.
Недостаток фотомасок также продиктован последними технологическими достижениями в процессе производства микросхем. Внедрение китайской компанией SMIC второго поколения техпроцесса глубокого ультрафиолетового лучевого излучения с длиной волны 7 нм вызвало увеличение спроса на фотомаски, поскольку этот процесс опирается на мультипаттернинг, который предполагает многократное освещение одного слоя для создания мельчайших элементов на подложке. Компания SMIC производит сложные процессоры с использованием 7-нм технологии, например, процессор HiSilicon Kirin 9000S, разработанный компанией Huawei. Помимо этого, фотомаски становятся все более сложными по мере перехода к полупроводниковым устройствам с более мелкими узлами.
Несмотря на усилия компаний, таких как Toppan, по расширению производственных мощностей во всем мире, отраслевые эксперты прогнозируют, что увеличение мощностей будет недостаточным для удовлетворения растущего спроса. Ожидается, что такой дисбаланс между спросом и предложением приведет к повышению цен на фотомаски в следующем году.
