Лазерные источники с излучением в УФ-диапазоне имеют широкий спектр применений, включая биотехнологию, лечение кожных заболеваний, УФ-отверждение полимеров и лазерную обработку. Однако, существующие лазеры в этом диапазоне имеют свои ограничения, такие как большие размеры, высокое энергопотребление, ограниченный диапазон длин волн и низкую эффективность. Это связано с тем, что достаточно мощные УФ-лазеры относятся либо к газоразрядным, либо к твердотельным типам конструкции лазеров. В последние годы были достигнуты значительные достижения в разработке полупроводниковых лазеров, которые генерируют свет путем инжекции тока. Особый интерес представляют устройства на основе нитрида алюминия-галлия (AlGaN), которые способны генерировать УФ-излучение. Однако, их выходная оптическая мощность в глубокой УФ-области обычно ограничена до 150 мВт, что недостаточно для медицинских и промышленных приложений. Группа исследователей из Японии, во главе с профессором Мотоаки Ивая, разработала новые высо