Компания Canon объявила о старте продаж специального оборудования под названием FPA-1200NZ2C. Новая установка, по заявлению производителя, предназначена для печати 5-нм чипов, и использует решение, отличное от сложной технологии литографии.
В основе работы FPA-1200NZ2C лежит принцип «наноимпринтинговой литографии». Вместо традиционного фотошаблона устройство использует штамп с нанорельефом. Последний предназначен для формирования маски из слоя полимера на поверхности полупроводниковой подложки.
Устройство может работать с кремниевыми пластинами площадью менее 14 квадратных метров, позволяя изготавливать чипы, эквивалентные 5-нм техпроцессу. Canon заявляет, что такая технология экологичнее мейнстримовых EUV-«станков», и обходится дешевле. К тому же компания намерена совершенствовать и развивать её, поэтому в будущем она сможет служить для производства 2-нм чипов.
Ранее такие производители, как SK Hynix и Kioxia, пытались реализовать аналогичную технологию, однако проведённые тесты выявили высокий уровень брака, и вендорам пришлось отказаться от дальнейшей разработки. Сроки начала коммерческой эксплуатации нового оборудования Canon пока не объявлены.
