Новаторская технология высокоскоростной многофотонной полимеризационной литографии, разработанная группой профессора Вэя Сюна, представляет собой значительный прорыв в области 3D-печати. Исследователи из Уханьской национальной лаборатории оптоэлектроники Хуачжунского университета науки и технологий предложили новый подход, основанный на акустооптическом сканировании с пространственным переключением (AOSS), который позволяет увеличить скорость печати на порядок по сравнению с традиционной сканирующей многофотонной литографией (MPL). Опубликованная статья в Международном журнале экстремального производства (IJEM) подтверждает, что новая технология способна печатать сложные 3D-микро-наноструктуры с удивительной точностью в 212 нм и обеспечивать невиданную скорость печати - 76 миллионов вокселей в секунду. Это сравнимо с тем, как художник создает автопортрет всего за пять минут, воссоздавая каждую деталь с удивительной реалистичностью. Технология двухфотонной литографии (TPL) уже нашла шир