С началом гибридной войны стран Запада Россия в полной мере начала ощущать дефицит технологического суверенитета в области нанотехнологий. Страна нуждается в самой разной микроэлектронике, чипах и высокотехнологичном оборудовании. Надежды на иностранных партнеров рухнули и теперь приходится наверстывать упущенное время, удесятеряя усилия. Специалисты Санкт-Петербургского политехнического университета, разработавшие две ключевые установки для промышленного создания микросхем, фактически обеспечили стране важный технологический прорыв.
Представленный комплекс состоит из двух частей – аппарата для безмасочной нанолитографии и установки плазмохимического травления кремния. Первый аппарат обеспечивает получение изображения на подложке и не нуждается в использовании специальной маски. Для управления его работой создан специальный софт, его работа автоматизирована на 100%. Стоимость устройства не превышает 5 000 000 рублей, хотя его иностранные аналоги стоят от 10 до 13 миллиардов рублей. На создание изображения уходит меньшее время, что позволяет говорить и о его высокой эффективности.
Не менее интересны и подходы, использованные российскими учеными при создании машины для плазмохимического травления кремния. Она отвечает за непосредственное формирование наноструктур. Кроме того, в ее возможности входит и создание микроскопических мембран, превосходящих по качеству и чувствительности аналоги, выполненные с использованием альтернативных технологий. Ученые продолжают работать над комплексом, улучшая его характеристики и расширяя функционал. Также в их планы входит внедрение в его структуру искусственного интеллекта (ИИ) для обеспечения более стабильной работы.
Ранее мы писали о разработанной специалистами из университета Пенсильвании биоразлагаемой электроники сложной геометрической формы.