В России планирут разрабатывать технологии массового производства чипов по 65-нанометровому техпроцессу

Судя по тому, что пишет информационный портал CNews, в России в ближайшее время появятся собственные технологии, которые позволят массово выпускать чипы с применением 250–65-нанометровых техпроцессов.

Судя по данным портала госзакупок, в конце прошлого месяца Минпромторг объявил пять тендеров на осуществление опытно-конструкторских работ по данному направлению. На исследования и работы государство планирует выделить 9,2 миллиарда рублей.

Названия ОКР звучат так:

• «Разработка и освоение в производстве установки лазерного устранения дефектов и постановка технологического процесса устранения недопустимых дефектов на фотошаблонах в обеспечение производства интегральных схем с топологическими нормами 90-65 нм».
• «Разработка и освоение в производстве установки контроля координат топологических элементов и критических размеров структур на фотошаблонах в обеспечение производства интегральных схем с топологическими нормами 90-65 нм».
• «Разработка и изготовление опытных образцов установок электрохимического осаждения для обеспечения серийного производства микроэлектроники на пластинах 100 мм/4 дюйма и 200 мм/90 нм».
• «Разработка технологии и комплексного инструмента проектирования широкой номенклатуры СВЧ-компонентов, изготавливаемых на основе гетероэпитаксиальных структур нитрида галлия на подложках карбида кремния с проектными нормами 0,25 мкм».
• «Разработка технологии и комплексного инструмента проектирования широкой номенклатуры СВЧ- и силовых компонентов, изготавливаемых на основе гетероэпитаксиальных структур нитрида галлия на подложках кремния с проектными нормами до 0,25 мкм».

Результаты первых трех ОКР должны быть представлены до 30 ноября 2026 года. Оставшиеся — до 30 ноября 2025 года.