По сведениям пресс-службы НЦФМ в России разработан первый проект рентгеновской литографии для производства микросхем. Система будет работать в диапазоне рентгеновского излучения с длиной волны 11,2 нм.
По предварительным оценкам проект рассчитан до 2030 года, но сначала предполагается создать альфа-прототип для обработки производственных операций. Вместе с экспертами в сфере продаж электронных компонентов — компанией «ЗУМ-СМД» рассмотрим новый проект подробнее.
Участники проекта литографии и задачи
Координатором проекта литографии является Институт физики микроструктур РАН. Здесь будет проводиться сборка и тестирование всех систем. Проект будет создаваться в несколько этапов с предположительным сроком:
- Создание альфа-литографа — примерно 2 года.
- Создание бета-литографа — около 3-х лет.
- Создание серийного литографа — 3 года.
Возможные участники проекта, которые будут решать задачи исследований и создания:
- ИФМ РАН — лазеры.
- НИИИС — НИИ измерительных систем им. Ю.Е. Седакова — маски и разработки техпроцессов.
- Институт лазерно-физических исследований — источники рентгеновских излучений и лазеров.
- Группа компаний «Конструкторское бюро радиосистем» — 3D-сканеры и системы совмещения.
- ООО НПП «ТЭОС» — интерферометры для 3D-сканеров.
- ООО «ПОЛИКЕТОН» — рентгенорезисты.
- ФГУП ЭЗАН — вакуумные системы.
- ООО «ТТМ» — роботы для пластин.
- ФТИ им. А.Ф. Иоффе — рентгенорезисты и композиции из органических полимеров и веществ, чувствительных к излучению.
- ОАО «Планар» — системы совмещения.
- СПбАУ РАН им. Ж.И. Алфёрова — моделирование масок.
Мировые производители литографов
Компания ASML (Нидерланды) является чуть ли не монополистом по производству литографических машин EUV. Из-за глобального дефицита чипов, спрос на продукцию значительно возрос, как и число клиентов компании. А это такие гиганты-инвесторы, как Intel, Samsung, TSMC и другие.
За прошлое десятилетие ASML создала 140 машин литографии, стоимостью примерно 200 млн. долларов каждая. Тем временем новые High NA намеренны продавать уже на треть дороже. Впрочем, на мировом рынке EUV-оборудования есть еще 2 японских бренда — Canon и Nikon. Они удерживали лишь небольшую часть рынка. И похоже конкуренция с ASML не позволит им продолжить развиваться в этом же направлении.
Литография микросхем в отечественном производстве
На данный момент ни одна из компаний производителей EUV-оборудования не может осуществить его поставку в Россию. Но и до этого запрета приобрести подобные машины смогли только 2 предприятия «Микрон» и «Ангстерм-Т».
Оба завода обладают возможностями с техпроцессом 130 — 65 нм, хотя линия на зеленоградском АО «Ангстрем» пока заморожена. Однако по заданию Минпромторга ведутся разработки своих собственных фотолитографических машин. Для реализации этих задач необходимо пройти 2 этапа, с топологией каждого 350 и 130 нм.
Чтобы работать в диапазоне 40 — 28 нм, необходимы уже другие технологии. Пока ученые получили лишь экспериментальные образцы рентгеновских генераторов, масок и прототипов микроскопа, работающих в диапазоне EUV. Сложности представляют системы совмещения и сканирования, которые предстоит значительно доработать.