Реакции Чернышенко пока нет.
Ранее я уже писал об этом проекте ИФМ РАН в своих статьях:
Недавно в Сарове прошёл семинар, в котором со своим докладом ещё раз выступил заведующий отделом многослойной рентгеновской оптики Института физики микроструктур (ИФМ) РАН Николай Иванович Чхало. В рамках доклада он изложил последний вариант проекта высокопроизводительного рентгеновского литографа для проектных норм 90-12 нм и ниже.
Напомню, что проект бесфотошаблонного рентгеновского литографа временно поставлен на паузу из-за того, что в рамках прошедшего НИР не удалось создать рабочую МЭМС с рентгеновскими зеркалами.
Итак, пробежимся по новому проекту
Цель проекта:
создание и организация производства в России высокопроизводительного литографа для производства микросхем по передовым технологическим нормам.
Задачи проекта:
- Разработка критических технологий для изготовления высокопроизводительного рентгенолитографа и организация производства критических элементов в России.
Часть технологий имеются, но требует донастройки, другая часть — доработки до требующихся параметров, а некоторые технологии, например, система позиционирования в вакууме, требует разработки почти с нуля. - Разработка альфа-литографа для возможности начала следующих работ:
- разработка и характеризации рентгенорезиста ;
- апробация и доработка всех систем литографа;
- отработка процессов получения наноструктур;
- разработка технологии отражательных масок;
- отлаживание логистики между участниками-соисполнителями.
Пока идёт дальнейшая работа над бета-литографом, нужно параллельно разрабатывать и отрабатывать сопутствующие направления. Для этого и нужна альфа-машина, чтобы сократить время разработки всей системы в целом. - Разработка экспериментального высокопроизводительного бета-литографа:
- новая шестизеркальная оптика вместо трёхзеркальной;
- более мощный лазер:
- интеграция рентгенолитографии в существующую технологическую линейку обычной УФ-литографии для производства критических слоёв чипов (сегодня в мире топовые чипы производятся путём смешения DUV и EUV-технологий);
- инфраструктура для производства рентгенорезистов и масок. - Разработка высокопроизводительного литографа для индустрии:
- повышение разрешения;
- увеличение производительности;
- организация производства рентгенолитографов в России.
Альфа-литограф
Разработка проекта находится в определённой степени готовности. Есть 3D-модели вакуумной камеры и рентгенооптической системы. Во ФГУП ЭЗАН уже изготавливается вакуумная камера на деньги института. Проект рассчитан на 2 года.
Оптика машины будет давать разрешение менее 28 нм, но за счёт несовершенной системы позиционирования (сканирования и совмещения) технологические нормы этого прототипа в оптимистичном сценарии ожидаются в районе 90 нм, хотя потенциально могут быть и тоньше.
Теоретический предел производительности этой машины — 40 пластин (100 мм) в час — это в случае автоматической подачи. Фактически подача будет ручная, и реальная производительность будет находится в районе 3-х пластин в час.
Бета-литограф
Длительность работ по этому проекту оценивается в 3 года. В бета-машине топологическую норму рассчитывают поднять до 32 нм.
Ожидается готовность дискового лазера мощности 2,4 кВт. Размер пластин увеличат до 200 мм. Производительность — до 66 пластин в час, что очень неплохо согласно оценке технологов из Микрона, которым, по их словам, достаточно от 40 пластин в час.
Серийный литограф
Длительность работ по этому проекту оценивается тоже в 3 года. Планируется улучшение всех характеристик машины. Разрешение рассчитывают поднять до 14 нм, что при соответствующем улучшении систем позиционирования позволит работать по технологическим нормам до 12 нм (видимо, благодаря некоторым трюкам).
К этому времени ожидается доступность дискового лазера мощностью 3,6 кВт, но теоретически а машине можно использовать и несколько менее мощных лазеров в параллель.
Основные участники проекта
В проекте задействовано много различных научных организаций и компаний. Чтобы осознать масштабность разработок, достаточно посмотреть на слайд ниже:
И это ещё не полный список. Здесь только организации, занимающиеся критическими технологиями.
В общем, проект рассчитан на 8 лет, и если его профинансировать и начать сегодня, то в районе 2030-го года можно ожидать результат.
Кроме железа, для реализации логики процессора в железе нужны ещё САПРы (системы автоматизированного проектирования) с соответствующими библиотеками элементов, которых ещё нет, и которые тоже необходимо разрабатывать. Самих САПР тоже нет. Этим всем ещё предстоит заняться.
Заключение
На сегодня всё. Будем надеяться, что проект не похоронят, а доведут до конца. Также хотелось бы надеяться, что и МЭМС для бесфотошаблонного литографа тоже доведут до ума — например, профинансируют Маппер, с которым ИФМ РАН уже начинал работы по этой теме и даже добился некоторых интересных результатов.
Ставьте нравлики, если информация показалась вам интересной, подписывайтесь на канал и излагайте свои соображения в комментариях. Удачи! :-)