Во всём мире насчитывается менее десяти государств, которые обладают возможностью создавать важнейшее оборудование для изготовления микрочипов. К их числу теперь присоединилась и Россия.
Компания, являющаяся резидентом особой экономической зоны «Технополис Москва», представила первый российский фотолитограф с разрешением 350 нанометров. О достижении сообщил Сергей Собянин в своем телеграм-канале.
«В мире насчитывается менее десяти стран, обладающих технологиями для создания подобного ключевого оборудования в производстве микросхем. Теперь к их числу присоединилась и Россия. Это значимый шаг к независимому производству микроэлектроники и обеспечению технологического суверенитета государства. Разработка стала возможной благодаря сотрудничеству с белорусским заводом, имеющим богатый опыт в этой сфере», — отметил мэр Москвы.
Новая установка выгодно отличается от иностранных аналогов. В ней впервые используется не ртутная лампа, а твердотельный лазер, обладающий высокой энергоэффективностью, большей долговечностью и более узким спектром излучения.
На разработку уже поступил заказ. Технологические процессы адаптируют в соответствии с требованиями производства конечного потребителя.
Также ведется работа над созданием фотолитографа с разрешением 130 нанометров. Завершение проекта запланировано на 2026 год.
