Найти в Дзене
Сделано у нас

Грандиозный прорыв! В России создали оборудование для производства микрочипов

Запад, своими санкциями добьётся только одного - появления у России своих технологий в производстве микроэлектроники. Это дело не быстрое, ведь тема сложнейшая, но этот процесс идет и его результат уже вполне ощутим Российская компания НИИТМ, расположенная в Зеленограде (Москва), завершила разработку и представила опытный образец первой отечественной установки для плазмохимического осаждения на 300-миллиметровых кремниевых пластинах. Это оборудование играет ключевую роль в развитии российской микроэлектронной промышленности. Ранее подобные установки закупались за границей, а доступные отечественные аналоги работали с пластинами меньшего диаметра, что ограничивало количество производимых чипов и увеличивало их себестоимость. Проект по созданию установки стартовал в 2021 году, и менее чем за четыре года специалистам удалось разработать и внедрить действующий образец. Новое оборудование поддерживает не только текущие 350-нм техпроцессы, которые уже могут быть реализованы на отечественных
     © tehnoomsk.ru
© tehnoomsk.ru

Запад, своими санкциями добьётся только одного - появления у России своих технологий в производстве микроэлектроники. Это дело не быстрое, ведь тема сложнейшая, но этот процесс идет и его результат уже вполне ощутим

Российская компания НИИТМ, расположенная в Зеленограде (Москва), завершила разработку и представила опытный образец первой отечественной установки для плазмохимического осаждения на 300-миллиметровых кремниевых пластинах. Это оборудование играет ключевую роль в развитии российской микроэлектронной промышленности. Ранее подобные установки закупались за границей, а доступные отечественные аналоги работали с пластинами меньшего диаметра, что ограничивало количество производимых чипов и увеличивало их себестоимость.

Проект по созданию установки стартовал в 2021 году, и менее чем за четыре года специалистам удалось разработать и внедрить действующий образец. Новое оборудование поддерживает не только текущие 350-нм техпроцессы, которые уже могут быть реализованы на отечественных мощностях, но и перспективные технологии, включая производство интегральных схем с топологией 28 нанометров.

Установка построена по модульному принципу, что позволяет легко адаптировать её под нужды конкретных производств. Опытный образец включает четыре технологических модуля, объединённых роботизированной транспортной системой для перемещения пластин. Кроме того, специалисты НИИТМ разработали специализированное программное обеспечение и систему управления для новой установки.

В 2025 году планируется провести испытания оборудования в НИИ молекулярной электроники (НИИМЭ, Зеленоград). Интересно, что в НИИМЭ также ведётся разработка собственного кластера для плазмохимического осаждения, ориентированного на техпроцессы 90-65 нанометров.

Создание российской установки для работы с 300-миллиметровыми кремниевыми пластинами стало важным шагом на пути к формированию независимой микроэлектронной промышленности в стране.

Комментарии в Дзене отключены, но зато они включены в нашем телеграме @sdelanounas_ru ⬅️, и там правда не скучно :)

Автор материала: Kотенко Cергей/«Сделано у нас»