Запад, своими санкциями добьётся только одного - появления у России своих технологий в производстве микроэлектроники. Это дело не быстрое, ведь тема сложнейшая, но этот процесс идет и его результат уже вполне ощутим Российская компания НИИТМ, расположенная в Зеленограде (Москва), завершила разработку и представила опытный образец первой отечественной установки для плазмохимического осаждения на 300-миллиметровых кремниевых пластинах. Это оборудование играет ключевую роль в развитии российской микроэлектронной промышленности. Ранее подобные установки закупались за границей, а доступные отечественные аналоги работали с пластинами меньшего диаметра, что ограничивало количество производимых чипов и увеличивало их себестоимость. Проект по созданию установки стартовал в 2021 году, и менее чем за четыре года специалистам удалось разработать и внедрить действующий образец. Новое оборудование поддерживает не только текущие 350-нм техпроцессы, которые уже могут быть реализованы на отечественных
Грандиозный прорыв! В России создали оборудование для производства микрочипов
21 марта 202521 мар 2025
9038
1 мин