Найти в Дзене
Электромозг

В ИПФ РАН созданы рентгеновские зеркала дифракционного качества для синхротрона СКИФ

Технология рентгеновских зеркал представляет интерес и для создания российского рентгеновского литографа, и для строящихся в России новых синхротронов. Про российские синхротроны я рассказывал в своей статье «Для литографического производства чипов в Зеленограде планируют достроить советский синхротрон!». И вот сейчас ученые отдела рентгеновской оптики ИФМ РАН разработали технологию изготовления многослойных рентгеновских зеркал дифракционного качества (условно ошибки волнового фронта составляют менее 1/4 длины волны) на подложках из монокристаллического кремния. Кремниевые подложки представляют собой плоские, сферические и асферические поверхности, обеспечивающие эффективную шероховатость в диапазоне пространственных частот 0,025-65 мкм⁻¹ — менее 0.2 нм и точность формы по параметру СКО на уровне 1 нм. Напомню, что размер кристаллической решётки кремния составляет 0,54307 нм а диаметр его атома — 0,24 нм. Методика включает стадию химико-механической полировки, обеспечивающей одноврем

Технология рентгеновских зеркал представляет интерес и для создания российского рентгеновского литографа, и для строящихся в России новых синхротронов. Про российские синхротроны я рассказывал в своей статье «Для литографического производства чипов в Зеленограде планируют достроить советский синхротрон!».

И вот сейчас ученые отдела рентгеновской оптики ИФМ РАН разработали технологию изготовления многослойных рентгеновских зеркал дифракционного качества (условно ошибки волнового фронта составляют менее 1/4 длины волны) на подложках из монокристаллического кремния.

Кремниевые подложки представляют собой плоские, сферические и асферические поверхности, обеспечивающие эффективную шероховатость в диапазоне пространственных частот 0,025-65 мкм⁻¹ — менее 0.2 нм и точность формы по параметру СКО на уровне 1 нм.

Напомню, что размер кристаллической решётки кремния составляет 0,54307 нм а диаметр его атома — 0,24 нм.

Методика включает стадию химико-механической полировки, обеспечивающей одновременно шероховатость поверхности на уровне ведущих производителей кремниевых пластин для микроэлектроники и точность формы по параметру СКО меньше 10 нм, и стадию ионно-пучковой обработки, обеспечивающую финальную полировку, асферизацию и коррекцию локальных ошибок формы.

Для измерения формы поверхности подложек, в том числе асферических и крупногабаритных, чьи размеры превышают рабочую апертуру интерферометра, разработаны специальные методики, алгоритмы и программное обеспечение.

Для финальной аттестации рентгенооптических характеристик зеркал разработан лабораторный стенд, позволяющий исследовать угловые ошибки отраженных волновых фронтов с чувствительностью лучше 1 мкрад.

Методики продемонстрировали свою эффективность при разработке плоских, фокусирующих и коллимирующих зеркал для двухзеркального монохроматора и нанофокусирующей системы, разрабатываемых в ИФМ РАН для синхротрона СКИФ, а также для высокоразрешающего рентгеновского спектрометра лабораторного рефлектометра.

Фото рентгеновских зеркал на основе монокристаллического кремния для двухзеркального монохроматора СКИФа
Фото рентгеновских зеркал на основе монокристаллического кремния для двухзеркального монохроматора СКИФа

Разработанные методы изготовления и метрологии находятся на уровне, близком к мировым лидерам, компании JTEC (Япония) и ZEISS (Германия), производящим зеркала из монокристаллического кремния для синхротронных применений.

Фото рентгеновских зеркал на основе монокристаллического кремния для нанофокусирующей системы СКИФа
Фото рентгеновских зеркал на основе монокристаллического кремния для нанофокусирующей системы СКИФа

Высокоточные зеркала из кремния востребованы на установках, где ожидаются высокие тепловые нагрузки, например, на станциях синхротронов 4-го поколения и лазерах на свободных электронах, к которым относятся СКИФ и СИЛА.

Это первая в России оптика, способная выдерживать мощные пучки рентгеновского излучения без ухудшения качества отраженных волновых фронтов, а также получать сфокусированные пучки размером в сотни нанометров

Планируется научиться создавать такие сверхточные зеркала с размерами порядка одного метра и повысить точность до 0,5 нм. Это еще больше расширит возможности исследователей на синхротронных станциях. Кроме того, результаты исследования будут востребованы в задачах создания, например коллекторов рентгеновского излучения для установок проекционной литографии.

Исследования проведены в рамках грантов РНФ (№21-72-30029) и ФНТП "Синхротронные и нейтронные исследования".

Проект РНФ №21-72-30029 называется «Многослойная рентгеновская оптика дифракционного качества для перспективных задач физики, нанодиагностики и наноструктурирования конденсированного вещества». Он выполняется Федеральным исследовательским центром «Институт прикладной физики им. А. В. Гапонова-Грехова Российской академии наук» с 2021 по 2024 год. 1

Федеральная научно-техническая программа «Синхротронные и нейтронные исследования» направлена на комплексное развитие этих направлений и исследовательской инфраструктуры в Российской Федерации. Среди задач программы — создание условий для проведения исследований, направленных на решение новых фундаментальных, прикладных и социально ориентированных задач, а также развитие исследовательской инфраструктуры, включая проектирование, строительство и техническую эксплуатацию уникальных научных установок.

Заключение

Напоминаю, что 10 марта 2025 года в Нижнем Новгороде начался XXIX Cимпозиум «Нанофизика и наноэлектроника», который будет проходить до 14 марта. На сайте симпозиума опубликована его программа и труды. Организована трансляция из залов. Запланированы выступления на тему рентгеновской оптики и рентгеновского литографа.

Самое интересное для интересующихся рентгеновской литографией будет 14 марта:

  • 11.30 – 12.00 (Пр.) Чхало Николай Иванович (ИФМ РАН) Состояние дел по проекту литографа на длину волны 11.2 нм
  • 12.00 – 12.20 Артюков Игорь Анатольевич (ФИАН) Об однозеркальной рентгеновской литографии
  • 12.20 – 12.40 Цыбин Николай Николаевич (ИФМ РАН) Обзор современного состояния в области изготовления фотошаблонов (отражающих масок) для проекционной литографии экстремального ультрафиолетового диапазона длин волн
  • 12.40 – 13.00 Петрова Дарья Вадимовна (ИФМ РАН) Экспонирование резистов для электронной и рентгеновской литографии на основе ПММА на длине волны 11,2 нм
  • 13.00 – 13.20 Нечай Андрей Николаевич (ИФМ РАН) Спектры лазерной плазмы в мягком рентгеновском диапазоне, полученные в улучшенных вакуумных условиях
  • 13.20 – 13.40 Загайнов Николай Владимирович (ИФМ РАН) Определение оптических констант тонких пленок Ru и Ta по данным лабораторной рефлектометрии.

На сегодня всё. Ставьте нравлики, подписывайтесь на канал и делитесь своим мнением в комментариях. Удачи! :-)