В качестве источника излучения использовали твердотельный лазер
Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) объявил о завершении разработки первого российского фотолитографа. Эта установка способна создавать микросхемы с разрешением 350 нанометров.
Новый литограф имеет ряд преимуществ по сравнению с предыдущими разработками. Площадь рабочего поля увеличена до 22х22 мм (вместо 3,2х3,2 мм), а максимальный диаметр обрабатываемых пластин возрос до 200 мм (с 150 мм). Впервые в российском литографе в качестве источника излучения применили не ртутную лампу, а более мощный и долговечный твердотельный лазер.
В настоящее время центр адаптирует технологические процессы под нужды конечных потребителей и ведет переговоры о поставках первых установок для модернизации существующих и оснащения новых микроэлектронных производств. Одним из потенциальных заказчиков называется компания «Микрон». ЗНТЦ также планирует завершить разработку литографа с разрешением 130 нм к 2026 году.
Ранее www1.ru сообщал, что первый российский литограф на 350 нанометров вышел на испытания.
Читать материалы по теме:
Росэлектроника показала технологию производства печатных плат
«Ростелеком» заинтересован в отечественном литографе и дальнейшем развитии проекта ОС «Аврора»
В России начнут производить печатные платы для портативной электроники