Компания разработает литографические устройства нового поколения.
Canon построит новый завод по производству полупроводникового оборудования на востоке Японии в префектуре Тотиги. Этот ответный шаг на инвестиции в эту сферу конкурентов - производителей микросхем из США, Южной Кореи и Тайваня.
Новый завод начнет работу весной 2025 года. Общий объем инвестиций составит более 50 млрд иен ($345 млн). Компания намерена удвоить свои текущие мощности.
В настоящее время Canon производит аналогичное оборудование на двух заводах в Японии. Оборудование используется для производства микросхем для автомобильных систем управления.
Ожидается, что в этом году продажи литографического оборудования вырастут на 29% в годовом исчислении до 180 единиц, что в четыре раза больше, чем 10 лет назад. Новый завод поможет удовлетворить растущий спрос.
По данным World Semiconductor Trade Statistics, в прошлом году мировой рынок полупроводников впервые превысил $500 млрд. Отрасль ожидает, что рынок достигнет $1 трлн в 2030 году, увеличившись вдвое по сравнению с 2021 годом.
Canon контролирует 30% мирового рынка литографического оборудования в натуральном выражении, уступая только ASML, на долю которой приходится 60%.
Intel и TSMC также объявили о планах строительства новых заводов в США и других странах. Canon решила, что ей необходимо увеличить производственные мощности на существующих площадках, поскольку спрос на полупроводники растет с каждым годом.
Технология нанопечатной литографии, разработанная Canon при участии японских компаний Kioxia и Dai Nippon Printing, позволяет выпускать передовые микросхемы по низким ценам.
В настоящее время оборудование, использующее технологию EUV, незаменимо для формирования схем на нанометровом уровне. ASML – единственная компания, занимающаяся этой технологией. Но это оборудование дорогое, стоит около 20 млрд иен за единицу, и потребляет много энергии. Если технологию нанопечатной литографии можно будет использовать на практике, Canon ожидает, что производственные затраты снизятся на 40%, а энергопотребление — на 90% по сравнению с EUV. И таким образом можно будет сломить доминирующее положение ASML на рынке.