В конце прошлого 2021-го года в Зеленограде началось строительство корпуса общей площадью 50 000 м² для размещения 28-нанометровой лабораторно-исследовательской линии с участком иммерсионной фотолитографии нидерландской компании ASML, аналогичной уже используемой в международном научно-исследовательский центре IMEC.
Строительство осуществляет Международный научно-технологический центр МИЭТ (Московский институт электронной техники). Корпус должен быть построен к концу 2024 года, но вот теперь вряд ли этой организации (МИЭТ) продадут иностранную лабораторно-исследовательскую линию, хотя МИЭТ и называется «международным» центром.
Напомню, что МИЭТ выполняет профинансированные государством исследования, связанные с созданием отечественных линий производства микросхем на базе российского бесфотошаблонного рентген-литографа для выпуска чипов 28 нм., которые должны закончится 30 ноября 2022 года, то есть, ещё за 2 года до завершения строительства корпуса для исследовательской линии от ASML. Таким образом, отсутствие этой исследовательской линии, по идее, никак не должно повлиять на выполнение работ по бесфотошаблонному литографу.
Выглядит всё так, что линия планировалась к приобретению для исследования не бесфотошаблонной, а уже классической фотолитографии 28 нм, которая позволила бы печатать микропроцессоры намного большими тиражами, нежели это позволяет делать бесфотошаблонная литография. Но это только моё предположение.
Замечу, что хотя окончание НИР по бесфотошаблонному литографу назначено на конец 2022 года, сама установка в промышленном виде будет готова скорее всего в районе 2024-2025 годов. Вообще, всё идёт к тому, что самое интересное в микроэлектронике начнётся у нас после 2024-го года, потому что к тому времени ожидается завершение очень многих проектов в этой сфере.
На этом пока всё. Ставьте нравлики, подписывайтесь на канал (вам кнопку нажать несложно, а мне подписчиков получить приятно), и делитесь своими соображениями в комментариях. Удачи!