Сегодня, 21 февраля 2023 года, вышло очень примечательное интервью с гендиректором Зеленоградского нанотехнологического центра Анатолием Ковалёвым. Известно, что его компания в сотрудничестве с белорусским заводом «Планар» (машины «Планара» доходили до минимального уровня топологии в 0,5 микрон) занимается разработкой фотолитографов для печати СБИС по проектным нормам 350 нм и 130 нм. Год назад я писал об этих контрактах. Опытный образец степпера на 350 нм согласно этим контрактам должен появиться к середине 2024-го года, а на 130 нм — к середине 2026-го. В упомянутой статье я перечислил все лоты того дня по микроэлектронике. Они включали в себя установки травления и осаждения, оборудование для изготовления фотошаблонов, установки получения гетероструктур и т.п. Этими проектами в настоящий момент занимаются другие компании. И вот теперь появилась некоторая конкретика по фотолитографу 350 нм. Уже в этом году компания начинает собирать заявки от потенциальных покупателей. Первая серийна
Серийный выпуск российских литографов на 350 нм планируют запустить уже в начале 2025 года!
21 февраля 202321 фев 2023
24,2 тыс
3 мин