Осенью 2021-го года я писал про НИР (научно-исследовательскую работу), появившуюся на сайте госзакупок, по теме «Разработка установки безмасочной рентгеновской нанолитографии на основе МЭМС (микроэлектромеханической системы) динамической маски для формирования наноструктур с размерами от 13 нм и ниже на базе синхротронного и/или плазменного источника», шифр «Рентген-Литограф».
Более общее положение дел с разработками в этой сфере я также описывал в ноябре прошлого года, и с тех пор никакой новой конкретной информации не появлялось. Недавние спекуляции по теме 7 нм были сделаны на основе всё той же старой информации и домыслов отдельных академиков.
29 октября 2021 года вышеупомянутую госзакупку выиграл Национальный исследовательский университет «Московский институт электронной техники» (МИЭТ) на сумму 670 млн. рублей. Сроком завершения работ значилось 30 ноября 2022 года.
Примечательно, что спустя четыре с половиной месяца, 16 марта 2022 года, МИЭТ объявляет тендер на 210 млн. рублей «Выполнение составной части научно-исследовательской работы (СЧ НИР) по теме: «Разработка облика и критических технологий создания элементов установки безмасочной рентгеновской литографии», который выигрывает Институт физики микроструктур (ИФМ РАН) (это филиал Института прикладной физики (ИПФ РАН). Но сроком завершения работ значится уже 31 декабря 2022 года.
Внимание, первый вопрос! А почему срок окончания этих работ указан на месяц позже, чем тех работ, которые эту работу в себя включают? :-)
Так или иначе, но ИФМ РАН уже сейчас наметил включить научные результаты этой своей работы в отчётный доклад Президенту и Правительству РФ примерно в таком виде:
--- НАЧАЛО ---
Инновационная разработка безмасочного рентгеновского литографа для мелкосерийного производства компонент микро- и наноэлектроники
Разработан облик безмасочного рентгеновского литографа на основе точечного лазерно-плазменного источника излучения на 13,5 нм и микроэлектромеханической системы микрозеркал в качестве динамической маски.
Созданный проекционный трехзеркальный объектив с 400-кратным уменьшением обеспечивает разрешение литографа до 20 нм.
Подтверждены основные принципы, заложенные в конструкцию безмасочного рентгеновского литографа, что позволяет приступить к этапу опытно-конструкторских работ по разработке литографа для мелкосерийного производства компонент микро- и наноэлектроники.
Авторы:
Н.И. Чхало (chkhalo@ipmras.ru; +79101094218), Н.Н. Салащенко, И.В.
Малышев, А.Е. Пестов, В.Н. Полковников, М.Н. Торопов (ИФМ РАН)
ООО «Маппер», ООО «ЭУФ лабс», МИЭТ.
Публикации:
1. N.I. Chkhalo et al., Proc. of SPIE, V.10224, 102241O-1-O8 (2016).
2. N. Chkhalo et al., Journal of Vacuum Science & Technology B, 35, 062002 (2017).
3. Н.Н. Салащенко и др., Поверхность, № 10, с.10–20 (2018).
ПФНИ: 1.3.2.5. Физика нано- и гетероструктур, мезоскопика
--- КОНЕЦ ---
Заключение
Не очень понятно, что в этой схеме сделал МИЭТ за 460 млн. рублей. Зеркала, источник излучения — это же всё детища ИМФ РАН, или я ошибаюсь? Это был мой второй вопрос.
На сегодня всё. Ставьте нравлики и подписывайтесь на мой канал. Свои ответы и предположения пишите в комментариях. Также жду ваших прогнозов, размышлений и аналитики. Пока!
