На просторах Сети уже появлялась информация о том, что в России ведутся работы по литографической установке, способной выпускать 7-нм чипы и даже говорилось о первых образцах полупроводников, а теперь появились новые данные по разработкам в этом направлении.
По словам научного руководителя НЦФМ Александра Сергеева, которые он привел выступая на завершившемся сегодня форуме «Атомэкспо 2022», в основе российского литографического оборудования будут лежать три отечественных достижения.
В пример, на который нужно ориентироваться и даже обойти его, Сергеев привел литограф от ASML с модельным номером NXE:3400B, имеющий 13,5-нанометровую длину волны. Принцип функционирования данного оборудования заключается в испарении лазерной установкой капель из олова, в итоге чего образуется плазма, а уже рентген-излучение от нее используется непосредственно для самой фотолитографии.
Что же касается «трех достижений» — это активная разработка сканера с высокой мощностью, подготовка к применению рабочего тела, отличающегося от применяемого в машинах ASML олова, чем сейчас занимаются специалисты РФЯЦ-ВНИИЭФ, а также разработка рентгеновских зеркал для фокуса излучения — по ним работы идут в ИПФ РАН, а также Федеральном ядерном центре (г.Саров).
Как утверждает Сергеев, совместная агрегация вышеуказанных разработок при участии специалистов НЦФМ и непосредственной поддержке «Росатомом», в ближайшие 2-3 года позволит создать российское литографическое оборудование с мощностью, которая будет в разы превосходить аналоги от ASML, а длина волны будет такой же — 13,5 нм.