20 октября на медиаресурсе «Техносфера.Россия», основанном в Омске Евгением Белкиным, внезапно появилась безымянная статья «У истоков российских сверхточных современных литографов», в которой утверждается, что в Институте прикладной физики Российской академии наук (ИПФ РАН) создан демонстрационный образец литографа (прототип прототипа), на котором получены отдельные изображения на подложках с разрешением до 7 нм.
При этом ресурс осторожно замечает, что пока говорить о грандиозном прорыве рано, и нужно пройти три этапа разработки за 6 лет до появления полноценного промышленного оборудования:
- В 2024 году должна быть готова «альфа-машина». Уже с этого момента установка станет рабочим оборудованием и будет рассчитана на проведение полного цикла операций. Однако упор на этом этапе будет сделан не на высокую скорость ее работы или разрешение, а на полноценную реализацию всех систем. Однако и этого должно быть достаточно, чтобы разработка стала привлекательной для инвесторов и фабрик, особенно с учетом конкурентной стоимости самой установки и её обслуживания.
- На втором этапе в 2026 году появится «бета-машина». Системы будут улучшены и усложнены, увеличится разрешение, повысится производительность, многие операции будут роботизированы. Установку уже можно будет применять на масштабных производствах, что и будет сделано – на этом рубеже важно интегрировать ее в реальные технологические процессы и отладить, «подтянув» соответствующее оборудование для других этапов производства.
- Наконец, на третьем этапе (2026-2028 годы) русский литограф получит более мощный источник излучения, улучшенные системы позиционирования и подачи, станет работать быстро и точно. Вот тут, возможно, мы и дойдем до «наших 7 нанометров.
На следующий же день статью восторженно перепечатали многие профильные интернет-издания и блогеры. Но вот кое-что меня смущает...
Мой скептицизм
Во-первых, статья не подписана. Возможно, её автором является сам основатель ресурса Евгений Белкин, потому и подписи нет. Но всё равно, как-то необычно, потому как ресурс предоставляет свою площадку также и для сторонних авторов.
Во-вторых, в статье опубликована весьма узнаваемая фотография с фабрики TSMC, к тому же с провокационным именем файла «28nm-factory-Russia.jpg».
Название имени файла сознательно вводит людей в заблуждение.
В-третьих, в статье перепутаны понятия разрешения литографа (7 нм) с условным обозначением техпроцесса. В техпроцессе 7 нм на кристалле нет почти ничего, что имело бы такие размеры. Например, длина затвора при этом техпроцессе — 16,5 нм, и меньше её уже практически не сделать, иначе транзистор перестаёт работать.
Таким образом, имея сканер с реальным разрешением 7 нм, можно печатать процессоры по условной технологической норме существенно более «тонкой», что, кстати, и делается на TSMC. Про условность нанометров я уже довольно подробно рассказывал в одной из своих прошлых статей. Почитайте тоже, это довольно интересно и познавательно.
В-четвёртых, сроки создания литографа даже пусть для условно 7-нанометрового техпроцесса, скорее, соответствуют первой досанкционной Мишустинской стратегии 2020-го года, после которой она была уже пересмотрена с целью к 2030-му году сделать хотя бы 28 нм (скорее всего речь идёт даже о бесфотошаблонной литографии).
Какие уж тут 7 нм (а по факту существенно меньше, поскольку при таком разрешении литографа доступны все современные техпроцессы вплоть до 2 нм и тоньше).
В-пятых, на сайте ИФМ РАН всей этой информации нет, хотя она обязана там быть для привлечения инвесторов, которых они, видимо, ищут.
Мой оптимизм
А вот я всё же, несмотря на все перечисленные выше подозрительные факты, допускаю наличие такого плана и проводящихся по нему работ! ))) И это не просто вера в лучшее, а допущение, основанное на кое-каком другом интересном факте. Кстати, о нём я уже писал в конце прошлого года.
Дело в том, что ещё в 2011 году в ИФМ РАН был разработан и запущен стенд рентгеновского литографа с рабочей длиной волны 13,5 нм!
Конечно, этот стенд — не промышленный литограф, а научный образец, оборудование для изучения рентгеновской литографии. После нескольких доработок как источника излучения, так и объектива, на нём были получены микроструктуры с разрешением порядка 30 нм.
Поэтому я не исключаю, что к сегодняшнему дню на нём или на его доработанном аналоге с рабочей длиной волны 11,3 нм было достигнуто разрешение и в 7 нм.
Другое дело — указанные сроки. К ним нужно относиться с пониманием того, что это предельные возможности ИФМ РАН при условии наличия инвесторов и соответствующего финансирования. Естественно, для привлечения потенциальных инвесторов даны наиболее оптимистичные сроки.
На месте государства я бы зубами вцепился в этот проект и завалил бы их деньгами. Пусть работают! Хуже не будет, технологии в любом случае понадобятся.
Заключение
А как вы считаете, насколько информация с медиаресурса «Техносфера.Россия» правдива? Пишите свои размышления и предположения в комментариях. Ставьте нравлики и подписывайтесь на мой канал. Удачи!