Во вторник Samsung Electronics объявила о завершении 5-нанометрового процесса FinFET, основанного на экстремальной ультрафиолетовой технологии (EUV), в результате активных усилий по укреплению фаундри-бизнеса с целью стать лидером рынка к 2030 году.
В дополнение к завершению 5-нм технологического процесса, основанного на EUV, Samsung также заявила, что начнет в этом месяце поставки чипов, изготовленных по 7-нанометровому технологическому процессу компании, что является первым в фаундри-индустрии, и намерена начать массовое производство 6-нм продуктов в течение года.
По сравнению с 7 нм, технология 5 нм FinFET обеспечивает увеличение эффективности логического сегмента до 25% при снижении энергопотребления на 20% или на 10%.
Как и его предшественник, технология 5 нм использует литографию EUV в паттернировании металлических слоев и уменьшает слои маски, обеспечивая лучшую точность воспроизведения.
Технология литографии EUV позволяет производителям микропроцессорных микр