Российские литографы, фабрика, литография

Предыдущая моя статья была посвящена завершению аванпроекта по рентгеновскому (EUV) литографу с длиной волны 11,2 нм. Сегодня же я расскажу о разрабатываемом у нас сейчас классическом DUV-литографе для техпроцесса 130 нм. Напомню, что разработку предыдущей модели литографа для техпроцесса 350 нм ЗНТЦ завершил ещё в 2024-м году, и она будет поставляться заказчикам уже в 2026-м году. Первый литограф на 350 нм фактически уже продан, твёрдый контракт был заключён в сентябре 2025-го года. Литограф будет поставлен на фабрику компании «Отраслевые решения»...

Долгожданная новость! Аванпроект по российскому рентгеновскому литографу с длиной волны 11,2 нм завершён! (хотя, по некоторым косвенным признакам, его всё же отправили на доработку со сроком до конца 2025-го года). Напомню, что ещё осенью 2024-го года Минпромторг заказал ФПИ (Фонду перспективных исследований) выполнить аванпроект по обоснованности работ первого этапа и всего проекта рентгеновского литографа. То есть, надо было понять, а есть ли вообще в России техническая возможность за приемлемые деньги реализовать задумку, или это всё фантазии учёных...

История эта началась летом 2023-го года в городе Саров, где Мишустин посетил филиал МГУ имени М.В.Ломоносова и институт лазерно-физических исследований. По итогам той своей поездки Мишустин дал ряд поручений. Так, Минпромторгу и Минэкономразвития было поручено проработать некие предложения «Росатома» по нескольким проектам, в том числе, по проекту создания отечественного рентгеновского литографа и производственных технологий для его использования. Срок исполнения поручений — 30 августа 2023 года...

Стало известно, что в феврале 2025 года Завод «Микрон» взял кредит в ВЭБ.РФ в размере 15 млрд. рублей на расширение мощностей существующих предприятий и запуск новых производственных площадок. Эта безусловно положительная информация подаётся в СМИ довольно странным образом, видимо, для хайпа на негативе: Производитель микроэлектроники «Микрон», принадлежащий группе «Элемент», заложил более сотни единиц производственного и прочего оборудования для привлечения финансирования. Заложены установки ASML, Hitachi, Zeta и другие...

Мы все знаем, что при производстве чипов ключевым элементом производственной линии является фотолитограф, который, собственно, и задаёт рисунок слоёв микросхемы на пластине из кремния. В погоне за увеличением быстродействия электронной схемы чипа, производители стараются сделать соединения между транзисторами в чипе как можно короче. Уменьшение длины соединений на 30% может снизить задержку на 40–50%, что критично для высокочастотных процессоров. Формула задержки сигнала: t ∝ R_уд ⋅ C_уд ⋅ L² где:...

Первые ОКР, начатые в самом начале 20-х годов, потихоньку начинают приносить свои плоды. Когда-то я с радостью писал об их начале, но скептики мне говорили — «это распил, ничего не будет, за 4 года или ишак или падишах...», ну и так далее. Но вот закончился 2024-й год, и начала появляться первая информация о различных разрабатываемых изделиях, находящихся в высокой степени готовности и даже в уже действующем состоянии. Так, совсем недавно я уже писал о готовности фотолитографа на 350 нм вместе с...