Российские и голландские DUV фотолитографы: +35 лет.
Попалось сообщение от 2008 года лидера мировой фотолитографии, нидерландской ASML, об отгрузке 1000-й фотолитографической системы KrF. Речь шла о фотолитографах, использующих источники излучения, построенные на фторид-криптоновых эксимерных (газовых) лазерах, генерирующих свет с длной волны 248 нанометров. Эти машины пришли на смену предыдущей линейке техники, так называемых i-line литографов, работающих на ультрафиолетовом свете с длиной волны 365 нм и использующих для его генерации ртутные лампы...