Фотолитографы

Куда Carl Zeiss, производитель оптики для фотолитографов экстремального ультрафиолета, отправляет свои модули по готовности? Конечно в нидерландский Вельдховен, главный кампус своего единственного заказчика, монополиста в области EUV фотолитографов, компании ASML. Речь о двух модулях: осветителе и объективе, совместными усилиями направляющих свет от источника излучения через фотошаблон к полупроводниковой пластине. Модули состоят из 10 многослойных кремний-молибденовых зеркал (4 в осветителе, 6 в объективе), если речь идёт о классических EUV фотолитографах с низкой числовой апертурой...

Ключевым партнёром нидерландской ASML в создании фотолитографа экстремального ультрафиолета (EUV) был (и является по сей день) крупный немецкий специалист в области оптики Carl Zeiss SMT. Немецкий передовик поставляет своему голландскому заказчику не просто отдельные компоненты оптической системы, а целые комплексные модули: осветитель + объектив. Почему один из модулей (второй относительно источника излучения) называется «объективом» понятно по аналогии с традиционной фотографией: задачей объектива...

Что такое фотолитограф экстремального ультрафиолета (EUV)? Есть популярное в среде электронщиков метафорическое определение: «это свет и зеркала». Красиво, даже романтично. Впрочем, к передовым фотолитографам глубокого ультрафиолета (DUV) это определение тоже применимо. Ведь в объективах таких машин зеркала, как правило, тоже присутствуют (в дополнение к линзам): это позволяет уменьшить искажения и сделать оптическую систему более компактной. ...

Вакуумная система в EUV фотолитографе является одной из ключевых. Ведь 13,5 нм свет экстремального ультрафиолета на протяжении всего своего пути от оловянной плазмы до полупроводниковой пластины существует исключительно в условиях глубокого вакуума. Воздух такое излучение немедленно поглощает. Надо сказать, что есть газы, которые более прозрачны для EUV излучения, чем другие. Например, водород и гелий. Поэтому водород используется в качестве буферного газа, защищающего зеркало коллектора от отложений...

Линзы для фотолитографов — сложнейший вид оптического оборудования. На заре фотолитографии, когда источники использовавшегося тогда синего и ультрафиолетового излучения представляли собой банальную вакуумную лампу (в некоторых типах литографов такое решение используется и в наши дни), именно создать «правильную» линзу было главным вызовом отрасли. И действительно, одно дело линза для фотокамеры или микроскопа, и совсем другое дело — для проекционного фотолитографа. С другой стороны, именно компании,...

Уже не первый год установки наноимпринтной литографии японской Canon находятся в фокусе внимания мировой полупроводниковой промышленности. Что совсем неудивительно, ведь эти машины позиционируются как единственная на сегодняшний день реалистичная альтернатива EUV фотолитографам нидерландской ASML...