Результаты исследования были представлены в статье «Частотные зависимости характеристик индуктивно-связанного радиочастотного разряда при пониженном давлении», опубликованной в журнале Plasma Sources Science and Technology.ИА Красная Весна
Поскольку частотная зависимость таких важных характеристик плазмы, как концентрация и температура электронов в широком диапазоне частот, физиками еще не определялась, исследователи КФУ решили заполнить этот пробел.ИА Красная Весна
Участники проекта далее смогли доказать, что концентрацию заряженных частиц, их температуру можно увеличить, одновременно получив оптимальную температуру несущего газа, подобрав частоту приложенного высокочастотного поля.ИА Красная Весна
Исследователи считают, что полученные ими научные результаты станут подспорьем проектировщикам новых установок ВЧ-плазменной обработки материалов и поспособствуют улучшению характеристик существующих.ИА Красная Весна