Samsung установит первый прорывной High-NA EUV инструмент в 2024 году
В декабре прошлого года делегация руководителей Samsung Electronics в Нидерландах договорилась с коллегами из ASML о строительстве исследовательского центра в Южной Корее, а также расписала график закупки передового оборудования на десять лет вперёд.3DNews
По данным Seoul Economic Daily, установка ASML Twinscan EXE:5000 с числовой апертурой 0,55 (NA) запланирована на период с 4 квартала 2024 года по 1 квартал 2025 года в кампусе Samsung в Хвасоне.Ferra
Официальные представители Samsung Electronics подтвердить информацию не пожелали, отметив, что в планах компании по приобретению оборудования класса High-NA EUV компании ASML ничего не изменилось.3DNews
«Совместный исследовательский центр двух компаний будет расположен в оптимальном месте», — добавили они.3DNews