Компании показали литографические установки, фоторезисты и оборудование для производства микросхем
ШАНХАЙ, 1 сентября. /ТАСС/. Компании особой экономической зоны "Технополис Москва" впервые приняли участие в XIV международной выставке полупроводникового оборудования, материалов и компонентов CSEAC 2026 в китайском городе Уси. Об этом сообщил заместитель мэра Москвы по вопросам транспорта и промышленности Максим Ликсутов.
"Участие в выставке в Китае - важный шаг для продвижения отечественных технологий за рубежом. Компании столичной особой экономической зоны при поддержке правительства Москвы впервые представляют свои разработки на этой площадке, - приводит его слова пресс-служба департамента инвестиционной и промышленной политики правительства Москвы. - Такие мероприятия позволяют предприятиям показывать высокий уровень своих решений и находить новых деловых партнеров".
Ликсутов отметил, что один из резидентов "Технополиса", который создает химические материалы для микроэлектроники, уже налаживает сотрудничество с китайскими коллегами. "Это помогает обмениваться опытом и выводить продукцию на новые рынки", - добавил он.
Как отмечается, Москва лидирует среди российских регионов по доле товарооборота с КНР. В первом полугодии 2026 года этот показатель вырос на 30% по сравнению с аналогичным периодом прошлого года, а промышленный экспорт столицы в Китай увеличился более чем вдвое благодаря поставкам продукции авиастроения и энергетического машиностроения.
На выставке в Уси, которая проходит с 31 августа по 2 сентября, московские предприятия демонстрируют оборудование, особо чистые реактивы, материалы и измерительные системы для производства микросхем. В частности, здесь представлены две литографические установки одного из резидентов ОЭЗ "Технополис Москва". Эксимерный лазер для них создала другая компания - "Лассард". Она также представила оборудование для двухстороннего шлифования пластин из арсенида галлия, германия, кремния и карбида кремния, а также для выращивания монокристаллов методом вертикальной направленной кристаллизации. Научно-исследовательский институт молекулярной электроники показал 15 новых химических материалов - фоторезисты, суспензии, антиотражающие покрытия для фотолитографии и составы для химико-механической планаризации. Институт развивает это направление с 2016 года и за это время снизил зависимость от импортных материалов при выпуске микросхем по технологиям 180-90 нанометров.
Участие московских компаний в выставке организовано при поддержке Минпромторга РФ, центра "Моспром", а также Торгового представительства России в КНР.