Intel развернула опытное производство с использованием сканеров EUV

Как известно, компании Samsung и TSMC первыми начали использовать в коммерческом производстве полупроводников сканеры диапазона EUV (сверхжёсткий или глубокий ультрафиолет с длиной волны 13,5 нм).3DNews