Imec начал подготовку опытной линии чипов с нормами менее 2 нм
В России начали испытывать свой собственный литограф.РЕН ТВ
На этом литографе можно будет производить чипы размером до 350 нанометров.РЕН ТВ
Чипы с топологией 350-65 нм применяются в микроконтроллерах, силовой электронике, телекоммуникационных схемах, автомобильной электронике и других областях.ТАСС
Чипы размером 130 нанометров впервые были произведены в мире в 2001 году.Smotrim.ru