Стандартные полупроводниковые микрочипы изготавливают из сверхтонких материалов толщиной примерно три атома, которые размещают слоями для повышения мощности устройства.Хайтек+
Специалисты из MIT продемонстрировали новую технологию эффективного выращивания слоев металлического дихалькогенида непосредственно на поверхности полностью готового кремниевого чипа.Хайтек+
Выращивание двухмерных материалов на кремниевой подложке КМОП – комплиментарной структуре металл-оксид-полупроводник – вызывает ряд сложностей, поскольку процесс обычно требует температур свыше 400 градусов Цельсия.Хайтек+
Недавно исследователи из MIT продемонстрировали возможность сочетания двух не соприкасавшихся ранее областей физики конденсированного вещества — так называемых муаровых материалов и 2D-магнитов — для создания нового, экзотического феномена.Хайтек+