Достигла 28-нанометрового полного производственного процесса ионных имплантаторов китайская дочерняя компания China Electronics Technology Group Corporation (CETC), сообщает 1 июля агентство Синьхуа.ИА Красная Весна
Ионный имплантатор является ключевым оборудованием в производстве микросхем.ИА Красная Весна
В настоящее время 28-нанометровый производственный процесс является зрелой процедурой с самым широким охватом в области применения чипов.ИА Красная Весна
Новое достижение позволит гарантировать промышленную безопасность Китая в сфере отечественного производства микросхем.Труд