В 2020 году сканеры для полупроводниковой литографии получат новые лазеры

От качества и мощности лазеров зависит производительность сканеров и масштаб технологических норм, которых можно достичь на данном этапе производства.3DNews
Оба новых лазера обещают привнести новейшие технологии в литографическую печать полупроводников, что требуется для изготовления более быстрых и более плотных интегральных схем.3DNews
Новый иммерсионный лазер GT66A ArF оснащен новейшим оптическим модулем для уменьшения пространственной когерентности и улучшения однородности луча на поверхности для проекции.3DNews
Тем самым источники EUV-излучения Gigaphoton так и не стали массовым продуктом для выпуска литографического оборудования для производства чипов.3DNews